设备概述：
l 微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量的金刚石单晶和多晶薄膜。
设备技术指标：
n 使用温度：200-1500℃
n 控温精度：±1℃
n 极限真空：5*10E4Pa
n 气路系统：4路+3路扩展
n 压力范围：7-300Torr
n 微波功率：0.5-10Kw连续可调
n 微波频率：2450MHz±50MHz
n 微波泄露值：＜5Mw/cm2
n 放电区域：≥100mm
n 沉积区域：≥80mm