HVPE（氢化物气相外延设备）
产品简介：
l 主要用于氮化镓（GaN）、氧化镓（Ga2O3）单晶生长
l 以蓝宝石/氧化镓（Ga2O3）等为衬底外延生长氮化镓（GaN）、氧化镓（Ga2O3）厚膜或晶体
产品特点：
u 工业计算机控制系统（WINDOWS系统界面，操作方便简洁）
u 关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
u 控温精度高，温区控温稳定性好
u 具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能
u 晶体生长均匀性好、重复性高
u 加热控制：多温区
u 衬底可采用旋转方式
u 立式（卧式）结构，合理可靠，满足客户工艺要求