
HVPE(氢化物气相外延设备)
产品简介:
l 主要用于氮化镓(GaN)、氧化镓(Ga2O3)单晶生长
l 以蓝宝石/氧化镓(Ga2O3)等为衬底外延生长氮化镓(GaN)、氧化镓(Ga2O3)厚膜或晶体
产品特点:
u 工业计算机控制系统(WINDOWS系统界面,操作方便简洁)
u 关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性
u 控温精度高,温区控温稳定性好
u 具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能
u 晶体生长均匀性好、重复性高
u 加热控制:多温区
u 衬底可采用旋转方式
u 立式(卧式)结构,合理可靠,满足客户工艺要求