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PVT法单晶生长炉
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发布日期:2020-08-21
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详细介绍

PVT法单晶生长

简述:

l 本设备主要用于SICALN单晶材料的生长

l 采用高温加热,使原材料在高温融化

l 各操作参数可通过显示屏控制

l 本设备具有各种连锁及安全保护措施,如水温报警、过流报警等

特点:

n 温度最高可达2400

n 旋转速度实时显示

n 加热器功率实时显示,定时采样,显示功率曲线

n 极限真空9.0×10-5Pa

n 停泵关阀12小时后≤10Pa


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